光・電子集積回路工学特論

　高機能の複合デバイスへの要求から、光・電子集積回路や光配線の研究開発・実用化が必須である。本特論では、光・電子集積回路用の各種デバイスの基礎と応用、薄膜形成法、集積化プロセスについての基礎を学習する。また、各自の専門との関連性を理解し、異分野・最先端技術への応用力を養う。

授業計画

1．	半導体集積回路（ULSI）の現状と課題
2．	発光デバイス(1)−発光メカニズム
3．	発光デバイス(2)−発光ダイオード、レーザダイオード
4．	受光デバイス−フォトダイオード、アバランシェフォトダイオード
5．	光ファイバの導波原理・種類
6．	回折格子：周期構造の原理
7．	方向性結合器の原理
8．	光・電子集積回路の現状と課題
9．	光・電子集積回路形成プロセス
10．	光回路の形成
11．	薄膜光導波路の原理・形成
12．	光配線技術
13．	光／電子デバイス用薄膜形成法(1)−結晶薄膜、シリコンの酸化
14．	光／電子デバイス用薄膜形成法(2)−PVD、CVD
15．	将来展望

評価方法と基準

レポート2回（授業7回目と14回目に課題配布）：各50点，合計100点として総合得点60点以上を合格とする。なお、評価を受けるためには、授業日数の2/3以上の出席が必要である。

教科書・参考書

参考書：「光・電子集積回路の物理」松枝秀明／裳華房
　　　　「光電子集積回路の基礎技術」光技術共同研究所編／オーム社