| 教授 | 今井八郎 |  |
ドライプロセス工学 |
Dry Process Engineering |
開講部 | 工学部 |
開講学科 | 材料工学科 |
開講学年 | 3年次 |
開講時期 | 後期 |
単位数 | 2 |
単位区分 | 選択必修 |
系列区分 | 専門 |
講義区分 | 講義 |
| 教授 | 今井八郎 | |
| 1. | 表面処理による材料の改良法はWetとDryに分けられる。Dryによる材料改良法の基礎と応用を理解し、修得させる。 |
| 1. | ドライプロセスとは ・ドライプロセス法の紹介 ・環境に配慮したドライプロセス法 ・種類、応用、実用例 |
| 2. | プラズマの科学 ・プラズマとは ・自然界のプラズマ現象 |
| 3. | プラズマの実用化 ・プラズマジェット ・レーザーと電子ビーム |
| 4. | PVD(1) ・PVD(Pysical Vapor Deposition)の原理 ・真空蒸着 |
| 5. | PVD(2) ・イオンプレーティング ・イオンプランテーション |
| 6. | 演習 |
| 7. | PVD(3) ・スパッタリング ・PVDの応用、実用例 |
| 8. | CVD(1) ・CVD(Chemical Vapor Deposition)の原理 ・プラズマCVD ・熱CVD |
| 9. | CVD(2) ・光CVD ・ MOCVD ・プラズマ重合 ・CVDの応用、実用例 ・PVD、CVDの省エネルギー方法 |
| 10. | 溶射(1) ・溶射とは ・γ5(高周波)プラズマ ・原理と応用 |
| 11. | 溶射(2) ・減圧雰囲気プラズマ ・レーザー法 ・超高圧 フレーム溶射 |
| 12. | 演習 |
| 13. | 浸炭、窒化 ・浸炭、室化の原理・浸硫処理 ・イオン室化 タフトライド処理 ・浸炭剤、室化剤の処分法とその設備投資 |
| 14. | 金属被覆 ・溶融法 ・各種応用例 ・メタライズ法 |
| 15. | ドライプロセスのまとめ ・ドライプロセスの今後の発展の可能性を探る。 |
| 16. | 演習 演習時間を利用して外部の公的研究所等２ヶ所ほど見学する。 |
| 17. | 溶射(1) ・溶射とは ・γ5(高周波)プラズマ ・原理と応用 18．演習 19．溶射(2) ・減圧雰囲気プラズマ ・レーザー法 ・超高圧 フレーム溶射 20．演習 21．浸炭、室化 ・浸炭、室化の原理・浸硫処理 ・イオン室化 タフトライド処理 ・浸炭剤、室化剤の処分法とその設備投資 22．演習 23．金属被覆 ・溶融法 ・各種応用例 ・メタライズ法 24．演習 25．自然を真似した材料の創成 26．演習 27．ドライプロセスのまとめ ・ドライプロセス法及び処理材の今後の発展の可能性を探る 28．演習 ・外部公的機関研究所の見学 29．演習 ・外部公的機関研究所の見学 30．試験 |
| ・ | 事前にアポイントをとれば、いつでも研究室にて対応可能 |