Japanese / English

2M993100

薄膜物性特論

Advanced Courses on Thin Film Physics

開講部

大学院理工学研究科　修士課程

開講学科

材料工学専攻

開講学年

1年次

開講時期

後期

単位数

2

単位区分

特修

系列区分

特論

講義区分

講義
教授弓野健太郎この授業の2015年度のアンケートを参照

授業の概要

薄膜材料は各種デバイスの主要部分を構成する材料であり、デバイスの動作特性を理解するためには薄膜の基礎物性に関する深い理解が不可欠である。本講義では、薄膜の基礎物性に関する内容を中心とし、特にバルク材料の物性との違いに重点をおいて説明を行う予定である。

授業の目的

薄膜の基礎物性、特にバルク材料の物性との違いについての理解を深める。

達成目標

1．様々な薄膜の作成法の修得。
2．薄膜物性に関する理解。
3．固体物理の知識に基づいた、デバイスの動作原理の理解。

授業で使用する言語

日本語（英語対応も可）

授業計画


【授業計画】【授業時間外課題（予習および復習を含む）】
1．イントロダクション 材料物性の復習をしておくこと。
2．薄膜の作成法（１）PVD法 教科書[1]の2章の予習。
3．薄膜の作成法（２）CVD法 教科書[1]の2章の予習。
4．薄膜の結晶成長機構 教科書[1]の2章の予習。
5．薄膜の電気伝導（１）金属 教科書[2]の6章の予習。
6．薄膜の電気伝導（２）半導体、絶縁体 教科書[2]の7章、8章の予習。
7．薄膜の磁性（１）常磁性体 教科書[2]の14章の予習。
8．薄膜の磁性（２）強磁性体 教科書[2]の15章の予習。
9．薄膜の誘電物性（１）常誘電体 教科書[2]の13章の予習。
10．薄膜の誘電物性（２）強誘電体 教科書[2]の13章の予習。
11．薄膜の光学的性質 教科書[2]の11章の予習。
12．点欠陥と転位 教科書[2]の18章、20章の予習。
13．半導体界面の特性 教科書[1]の8章の予習。
14．半導体デバイス 教科書[1]の8章の予習。
15．量子効果デバイス 教科書[1]の8章の予習。

評価方法と基準

レポート１００点とし総合得点６０点
以上を合格とする。

教科書・参考書

[1] Surfaces and Interfaces of Solids, H.Luth, Springer-Verlag, 1993
[2] Introduction to Solid State Physics, C.Kittel, John Wiley & Sons, 2004

履修登録前の準備

材料物性に関する基本的な知識を有していることが望ましい。

オフィスアワー、質問・相談の方法

・事前の予約があれば、いつでも可。

環境との関連

環境に関連しない科目

地域志向

地域志向ではない科目

社会的・職業的自立力の育成

・知識活用力を育成する科目

アクティブ・ラーニング科目

能動的な学修への参加を取り入れた授業が1コマ分以上
最終更新 : Thu Jun 09 09:40:57 JST 2016