Course title
7D839400
Advanced Thin Film Material Science

yumoto atsushi
Course content
薄膜材料の成膜法及び薄膜の物性評価法に関連する技術体系について総合的に解説する.
Purpose of class
薄膜材料,薄膜形成技術及び周辺技術について理解し,技術的体系を構築する.
Goals and objectives
  1. 最新の薄膜形成技術について理解する.
  2. 最新の薄膜評価法について理解する.
  3. 議論や発表を通して,各種薄膜材料の成膜及び膜の評価法に関する研究手法を身につける.
Language
Japanese(English accepted)
Class schedule

Class schedule HW assignments (Including preparation and review of the class.) Amount of Time Required
1. ガイダンス 指定課題を提出すること 190minutes
2. 半導体膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
3. 化合物半導体膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
4. パワー半導体膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
5. 鉄系軟磁性膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
6. 高周波用フェライト軟磁性膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
7. NdFeB系硬磁性膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
8. NdFeB以外の硬磁性膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
9. 厚膜熱電材料膜の成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
10. 導電性セラミックス膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
11. 防食,耐酸化性膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
12. 耐摩耗性膜の形成技術,評価方法,研形成技術,評価方法,研究動向究動向 指定課題を提出すること 190minutes
13. 色素増感太陽電池及びリチウムイオン2次電池の電極膜の形成技術,評価方法,研究動向 指定課題を提出すること 190minutes
14. 各種薄膜密着性方法の理論 指定課題を提出すること 190minutes
15. 総括 指定課題を提出すること 190minutes
Total. - - 2850minutes
Relationship between 'Goals and Objectives' and 'Course Outcomes'

レポート Total.
1. 40% 40%
2. 30% 30%
3. 30% 30%
Total. 100% -
Evaluation method and criteria
レポートにより評価する
Textbooks and reference materials
必要に応じて参考書や文献を紹介あるいは各自検索して使用する.
Prerequisites
薄膜形成技術について基礎的な事項について理解していること.
Office hours and How to contact professors for questions
  • 随時
Relation to the environment
Environment education course (50%)
Regionally-oriented
Non-regionally-oriented course
Development of social and professional independence
  • Course that cultivates an ability for utilizing knowledge
  • Course that cultivates a basic problem-solving skills
  • Course that cultivates a basic self-management skills
Active-learning course
About half of the classes are interactive
Last modified : Wed Oct 17 08:33:05 JST 2018