Class schedule | HW assignments (Including preparation and review of the class.) | Amount of Time Required | |
---|---|---|---|
1. | マイクロ・ナノ工学の概説 | MEMSについて調べる. | 160minutes |
2. | マイクロ技術の利用1 ・電子情報機器の用途・仕組み ・マイクロ技術を使ったセンサ例1 |
情報機器内で利用されているマイクロ技術について調査する. | 160minutes |
3. | マイクロ技術の利用2 ・マイクロ技術を使ったセンサ例2 |
センサを使ったシステムの実際の仕組みについて復習する. | 160minutes |
4. | マイクロ技術要素1 ・バネマス系 ・静電アクチュエータ ・板ばね,曲がりばね解析 |
2次振動系について復習する. | 160minutes |
5. | マイクロ技術要素2 ・共振現象 ・駆動原理(ピエゾ効果,ローレンツ力,毛細管現象,…) |
駆動原理について復習する. | 160minutes |
6. | マイクロ製造技術1 ・フォトリソグラフィ ・成膜技術(スパッタ法,蒸着法,CVD) ・エッチング技術(ドライエッチング,ウェットエッチング,等方/異方性エッチング) ・リフトオフと逆テーパ感光レジスト |
マイクロ製造技術に関して復習する. | 160minutes |
7. | マイクロ製造技術2 ・シリコン深掘り装置 ・犠牲層エッチング ・ダイシング・ボンディング ・CMOSポストプロセス |
シリコン深掘り装置を使ったプロセスについて調査する. | 160minutes |
8. | 中間試験 | 試験問題に関して,調査・確認する. | 160minutes |
9. | 真空装置 ・排気系:真空ポンプ ・圧力センサ(IG,B-Aゲージ,シュルツゲージ) ・シーリング ・リークチェック ・フローメータ ・プラズマ |
真空装置について復習する. | 160minutes |
10. | ナノ工学 ・ナノオーダの加工技術(電子線直接描画リソ,電子線ビーム加工,高速原子線[FAB]加工) ・表面処理 ・自己組織化単分子膜(SAM膜) |
ナノ工学について復習する. | 160minutes |
11. | 応用技術1 ・自動車,家電 ・情報,通信 |
実際の応用例に関して調査する. | 160minutes |
12. | 応用技術2 ・製造,検査 ・医療,バイオ |
実際の応用例に関して調査する. | 160minutes |
13. | 応用技術3 ・最近のマイクロ技術のトレンド |
マイクロ工学の論文を読む. | 160minutes |
14. | 期末試験 | マイクロ・ナノ工学領域の全体に関して復習してまとめる. | 160minutes |
Total. | - | - | 2240minutes |
中間試験 | 課題レポート | 期末試験 | Total. | |
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1. | 20% | 20% | 40% | |
2. | 20% | 20% | ||
3. | 20% | 20% | 40% | |
Total. | 40% | 20% | 40% | - |
Work experience | Work experience and relevance to the course content if applicatable |
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N/A | 該当しない |