Class schedule | HW assignments (Including preparation and review of the class.) | Amount of Time Required | |
---|---|---|---|
1. | ガイダンスその他 ・分析とはなにか? ・材料工学における分析の重要性について ・講義の計画と方針 |
材料と製品の関連性、授業計画の確認 | 30minutes |
2. | 分析に必要な基礎知識(1) ・SI単位 ・有効数字の考え方 ・誤差の種類 ・誤差の取り扱い、統計的処理 ・最小二乗法 |
単位、有効数字 誤差、統計処理 |
30minutes |
3. | 分析に必要な基礎知識(2) ・濃度の種類と計算方法 ・水の純度 ・正確な測定のための器具の取り扱い |
溶液、濃度の表記と正確な計算法および溶液作成法 | 30minutes |
4. | 分析に必要な基礎知識(3) ・材料の機械的性質 ・材料の化学的性質 |
強度、延性、靭性、弾性、硬度、疲労特性、耐食性 | 30minutes |
5. | 分析に必要な基礎知識(4) ・分析における安全管理について ・分析における危険とその対策 ・製品安全データシート(MSDS) ・環境と廃液処理 |
安全と環境保全について | 30minutes |
6. | これまでの復習(1)(演習問題) | これまでの復習 | 60minutes |
7. | これまでの復習(2)(演習問題の解説) | これまでの復習 | 60minutes |
8. | 代表的な分析機器(1) 試料の観察 ・光学顕微鏡(OM) ・レーザー顕微鏡(LM, LSCM, CLSM) ・走査型電子顕微鏡(SEM) ・透過型電子顕微鏡(TEM) ・走査型プローブ顕微鏡(SPM) |
顕微鏡の種類と目的に応じた機種選定 | 30minutes |
9. | 代表的な分析機器(2) 元素分析(1) ・エネルギー分散型X線分光分析(EDS) ・波長分散型X線分光分析(WDS) ・電子線マイクロアナライザ(EPMA) ・蛍光X線分光分析(XRF) |
電磁波の入射とその応答 | 30minutes |
10. | 代表的な分析機器(3) 元素分析(2), 物質の同定, 溶液分析 ・X線光電子分光分析(XPS) ・オージェ電子分光分析(AES) ・X線回折(XRD) ・紫外可視近赤外分光光度計(UV-Vis-NIR) ・原子吸光分析(AAS) ・誘導結合プラズマ分析(ICP) |
電磁波の入射とその応答 励起状態と基底状態 |
30minutes |
11. | これまでの復習(3)(演習問題) | これまでの復習 | 120minutes |
12. | これまでの復習(4)(演習問題の解説) ・画像データの取り扱いについて |
これまでの復習、研究者倫理について | 60minutes |
13. | 材料科学の先端研究 | 実践的な材料研究の紹介 | 0minutes |
14. | 最終試験と解説 | 総復習 | 180minutes |
Total. | - | - | 720minutes |
期末試験 | 演習1 | 演習2 | 演習3 | Total. | |
---|---|---|---|---|---|
1. | 25% | 5% | 0% | 0% | 30% |
2. | 25% | 0% | 5% | 5% | 35% |
3. | 30% | 0% | 0% | 5% | 35% |
4. | 0% | ||||
Total. | 80% | 5% | 5% | 10% | - |
Work experience | Work experience and relevance to the course content if applicable |
---|---|
N/A | 該当しない |